Heidolph的磁力攪拌器

產(chǎn)品信息：

? 可根據(jù)需要選擇不同形狀和大小的攪拌盤(pán)

? 操作方面，數(shù)字顯示，帶背景燈

? 800W的加熱能力，快速加熱     

? 轉(zhuǎn)速zui大可達(dá)到14，000rpm

? 強(qiáng)大磁力，輕松驅(qū)動(dòng)攪拌子

? zui多可攪拌20L水

? 免維護(hù)的發(fā)動(dòng)機(jī)，啟動(dòng)順暢

? 溫度調(diào)節(jié)精度可至±1℃

? 高效率驅(qū)動(dòng)，低效率消耗

? 包裹防腐蝕材料的硅合金機(jī)身，持久耐用

加熱型磁力攪拌器MR Hei-End

高安全性能

? 800Ｗ加熱功率 （600 W 于 115/100 V）

?加熱盤(pán): 陶瓷涂層的硅鋁合金

?優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能

?優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能

?加熱盤(pán)直徑: 145 mm

?通過(guò)兩個(gè)獨(dú)立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤(pán)斷電功能

?預(yù)設(shè)溫差△T, 當(dāng)溫度偏離控制溫度達(dá)到預(yù)設(shè)定的溫度差時(shí)

?獨(dú)立線路開(kāi)關(guān)自動(dòng)停止加熱

?*避免錯(cuò)誤的溫度設(shè)定

?速度范圍: 30 - 1,400 rpm

?出眾的溫度控制精度: ±1 %

?數(shù)字顯示速度和溫度（包括設(shè)定值和實(shí)際值）

?加熱盤(pán)溫度范圍: 20 - 300 °C 

?介質(zhì)溫度范圍:zui高 250     

?精確溫度設(shè)定：±1K    

?當(dāng)停止加熱時(shí), 加熱盤(pán)溫度仍高到50°C, 顯示屏上顯示加熱盤(pán)的殘留熱量

?照明開(kāi)關(guān)

?三端雙向可控硅開(kāi)關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命

?電子轉(zhuǎn)速限制, 保護(hù)發(fā)動(dòng)機(jī)

?加強(qiáng)型大功率攪拌磁力發(fā)動(dòng)機(jī), 驅(qū)動(dòng)攪拌子輕而易舉

?優(yōu)秀的攪拌性能，處理量zui大達(dá) 20升（ H2O）   

加熱型磁力攪拌器MR Tec/Tec[]

適用于更高實(shí)驗(yàn)要求

MR Hei-Tec

?800 W加熱功率 （600 W 于 115/100 V）

?數(shù)字顯示設(shè)定溫度和實(shí)際溫度

?加熱盤(pán)溫度范圍: 20 – 300°C

?介質(zhì)溫度范圍: zui高達(dá) 250°C

?速度范圍: 100 - 1,400 rpm

?速度控制精度:±2 %

?通過(guò)兩個(gè)獨(dú)立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤(pán)斷電功能  

?當(dāng)溫度偏離控制溫度達(dá)50°C時(shí)，獨(dú)立線路開(kāi)關(guān)自動(dòng)停止加熱

?照明開(kāi)關(guān)

?電子溫度控制

（選配 EKT Hei-Con）

?精確溫度設(shè)定:   ±1K 

（選配 EKT Hei-Con）

?介質(zhì)溫度控制精度: ±1K

（選配 EKT Hei-Con）

?三端雙向可控硅開(kāi)關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命

?電子轉(zhuǎn)速限制, 保護(hù)發(fā)動(dòng)機(jī)

?加強(qiáng)型大功率攪拌磁力發(fā)動(dòng)機(jī), 驅(qū)動(dòng)攪拌子輕而易舉

?優(yōu)秀的攪拌性能，處理量zui大達(dá) 20升（ H2O）

MR Hei-Tec

?加熱盤(pán): 陶瓷涂層的硅鋁合金

-          優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能

-          優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能

?加熱盤(pán)直徑: 145 mm

MR Hei-Tec [ ]

?與 MR Hei-Tec 參數(shù)*

?正方形加熱盤(pán)

?加熱盤(pán)由瓷釉涂層硅鋁合金制備而成

?加熱盤(pán)尺寸 w x d （mm）: 132 x 132

加熱型磁力攪拌器MR Standard

適用于任何實(shí)驗(yàn)室的標(biāo)準(zhǔn)攪拌器

MR Hei-Standard

? 800 W 加熱功率 （600 W 于 115/100 V）

?加熱盤(pán)溫度范圍: 20 – 300°C

?介質(zhì)溫度范圍: zui高達(dá) 250°C

?速度范圍: 100 - 1,400 rpm

?速度控制精度:±2 %

?加熱盤(pán): 陶瓷涂層的硅鋁合金

-          優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能

-          優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能

?加熱盤(pán)直徑: 145 mm

?通過(guò)兩個(gè)獨(dú)立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤(pán)斷電功能  

?當(dāng)溫度偏離控制溫度達(dá)50°C時(shí)，獨(dú)立線路開(kāi)關(guān)自動(dòng)停止加熱

?電子溫度控制

（選配 EKT Hei-Con）

?精確溫度設(shè)定:   ±1K 

（選配 EKT Hei-Con）

?介質(zhì)溫度控制精度: ±1K

（選配 EKT Hei-Con）

?三端雙向可控硅開(kāi)關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命

?電子轉(zhuǎn)速限制, 保護(hù)發(fā)動(dòng)機(jī)

?加強(qiáng)型大功率攪拌磁力發(fā)動(dòng)機(jī), 驅(qū)動(dòng)攪拌子輕而易舉

?優(yōu)秀的攪拌性能，處理量zui大達(dá) 20升（ H2O）

磁力攪拌器MR Mix D/L/S

攪拌單功能

MR Hei-Mix D

?數(shù)字顯示，電子速度控制

?速度范圍: 100 - 1,400 rpm

?速度控制精度:±2 %

?加強(qiáng)型大功率攪拌磁力發(fā)動(dòng)機(jī), 驅(qū)動(dòng)攪拌子輕而易舉

?加熱盤(pán)材料為抗腐蝕不銹鋼 （V2A）

?加熱盤(pán)直徑: 145 mm

?延長(zhǎng)操作時(shí)間, 亦只有極微熱量傳送至加熱盤(pán)

?推薦用于細(xì)胞生物學(xué)實(shí)驗(yàn)室MR Hei-Mix L

?與MR Hei-Mix D參數(shù)*, 無(wú)數(shù)字顯示MR Hei-Mix S

?白色, 抗化學(xué)腐蝕 PVDF 加熱盤(pán)

?特別推薦用于滴定

?加熱盤(pán)直徑: 105 mm

?電子速度控制，無(wú)數(shù)字顯示

?大范圍速度設(shè)定: 0 - 2,200 rpm

?機(jī)身: 抗化學(xué)腐蝕材料聚氨酯

?zui小的空間需要:

126 ×80×140 mm （w × h × d）